黑龍江光刻機推薦產(chǎn)品

來源: 發(fā)布時間:2022-09-17

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG620NT特征:晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm。黑龍江光刻機推薦產(chǎn)品

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EVG增強對準:全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,大間隙,晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。確保*好圖形對比度,并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法,自動原點功能,合成對準鍵模式導入和培訓可確保高度可重復的對準結果。曝光光學:提供不同配置的曝光光學系統(tǒng),旨在實現(xiàn)任何應用的*大靈活性。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150,200和300 mm基片進行了優(yōu)化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線濾光片,甚至還有深紫外線。掩模對準光刻機高級封裝應用IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達200 mm / 300 mm。

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這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機,EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng);EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),請聯(lián)系我們,我們會給您提供蕞新的資料?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關信息。

掩模對準系統(tǒng):EVG的發(fā)明,例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),開創(chuàng)了頂面和雙面光刻,對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,并設定了行業(yè)標準。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產(chǎn)品來增強這些核欣光刻技術,從而在這些領域做出了貢獻。EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板,旨在為高級應用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗證,并已安裝在全球的生產(chǎn)設施中,以支持眾多應用,包括高級封裝,化合物半導體,功率器件,LED,傳感器和MEMS制造。EVG光刻機關注未來市場趨勢 - 例如光子學 、光學3D傳感- 并為這些應用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。

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EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項預對準:光學/機械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標準。黑龍江光刻機推薦產(chǎn)品

所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件,它可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性。黑龍江光刻機推薦產(chǎn)品

我們的研發(fā)實力:EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術和*大的靈活性,使大學、研究機構和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目。此外,研發(fā)設備與EVG的合心技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。研發(fā)和權面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導向,研發(fā)才具有價值,也是我們不斷前進的動力。黑龍江光刻機推薦產(chǎn)品

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