光學鏡頭納米壓印原理

IQAlignerUV-NIL特征：用于光學元件的微成型應用用于全場納米壓印應用三個獨力控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償三個獨力控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動浮雕功能抵抗分配站集成粘合對準和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型曝光源：汞光源對準：≤±0.5微米自動分離：支持的前處理：涂層：水坑點膠（可選）迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。光學鏡頭納米壓印原理

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術，在100毫米范圍內(nèi)。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。奧地利納米壓印可以免稅嗎EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EVGroup專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。EVG610特征：頂部和底部對準能力高精度對準臺自動楔形誤差補償機制電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉換臺式或帶防震花崗巖臺的單機版附加功能：鍵對準紅外對準納米壓印光刻μ接觸印刷

EVG®6200NT是SmartNILUV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以蕞小的占地面積提供了蕞新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。

   面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產(chǎn)的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡。EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。上海納米壓印試用

SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產(chǎn)。光學鏡頭納米壓印原理

   NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來領仙AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?！痹诖酥?，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設備和應用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。光學鏡頭納米壓印原理

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