碳化硅膜厚儀輪廓測量應用

來源: 發(fā)布時間:2022-06-25

FSM360拉曼光譜系統(tǒng)FSM紫外光和可見光拉曼系統(tǒng),型號360FSM拉曼的應用l局部應力;l局部化學成分l局部損傷紫外光可測試的深度優(yōu)袖的薄膜(SOI或Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應力可見光可測試的深度良好的厚樣以及多層樣品的局部應力系統(tǒng)測試應力的精度小于15mpa(0.03cm-1)全自動的200mm和300mm硅片檢查自動檢驗和聚焦的能力。以上的信息比較有限,如果您有更加詳細的技術問題,請聯系我們的技術人員為您解答?;蛘咴L問我們的官網了解更多信息??蓽y量的層數: 通常能夠測量薄膜堆內的三層獨力薄膜。 在某些情況下,能夠測量到十幾層。碳化硅膜厚儀輪廓測量應用

碳化硅膜厚儀輪廓測量應用,膜厚儀

生物醫(yī)療器械應用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準備方面會用到許多類型的涂層。有些涂層是為了保護設備免受腐蝕,而其他的則是為了預防組織損傷、敢染或者是排異反應。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學器械,如血管成型球囊,具有獨力的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作。測量范例:支架是塑料或金屬制成的插入血管防止收縮的小管。很多時候,這些支架用聚合物或藥物涂層處理,以提高功能和耐腐蝕。F40配上20倍物鏡(25微米光斑),我們能夠測量沿不銹鋼支架外徑這些涂層的厚度。這個功能強大的儀器提供醫(yī)療器械行業(yè)快速可靠,非破壞性,無需樣品準備的厚度測量。福建膜厚儀樣機試用F20-EXR測厚范圍:15nm - 250μm;波長:380-1700nm。

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  更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。F70:瑾通過在F20基本平臺上增加鏡頭,使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設備的測量范圍極大的拓展至。F10-RT:在F20實現反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。PARTS:在垂直入射光源基礎上增加70o光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。**膜厚測量儀系統(tǒng)F20使用F20**分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學參數(n和k)。您可以在幾秒鐘內通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數。任何具備基本電腦技術的人都能在幾分鐘內將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源、光纖導線、鏡頭集和和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。膜層實例幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:sio2(二氧化硅)sinx(氮化硅)dlc(類金剛石碳)photoresist。

(光刻膠)polyerlayers(高分子聚合物層)polymide(聚酰亞胺)polysilicon(多晶硅)amorphoussilicon(非晶硅)基底實例:對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。包括:silicon(硅)glass(玻璃)aluminum(鋁)gaas(砷化鎵)steel(鋼)polycarbonate(聚碳酸脂)polymerfilms(高分子聚合物膜)應用半導體制造液晶顯示器光學鍍膜photoresist光刻膠oxides氧化物nitrides氮化物cellgaps液晶間隙polyimide聚酰亞胺ito納米銦錫金屬氧化物hardnesscoatings硬鍍膜anti-reflectioncoatings增透鍍膜filters濾光f20使用**仿真活動來分析光譜反射率數據。標準配置和規(guī)格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只測試厚度1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm測試厚度和n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波長范圍200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm準確度大于%或2nm精度1A2A1A穩(wěn)定性光斑大小20μm至可選樣品大小1mm至300mm及更大探測器類型1250-元素硅陣列512-元素砷化銦鎵1000-元素硅&512-砷化銦鎵陣列光源鎢鹵素燈。成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動測量系統(tǒng)成功地解決這些問題。

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平臺和平臺附件標準和磚用平臺。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺,F20系統(tǒng)的標準配置??烧{節(jié)鏡頭高度,103mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺。可調節(jié)鏡頭高度,139mm進深。適用所有波長范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺??烧{節(jié)鏡頭高度,550mm進深。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺,具有可調整焦距的反射光學配件,需搭配具有APC接頭的光纖,全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mmF30測厚范圍:15nm-70μm;波長:380-1050nm。中芯國際膜厚儀國內代理

F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。碳化硅膜厚儀輪廓測量應用

F50系列自動化薄膜測繪FilmetricsF50系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta平臺可接受標準和客制化夾盤,樣品直徑可達450毫米。(耐用的平臺在我們的量產系統(tǒng)能夠執(zhí)行數百萬次的量測!)測繪圖案可以是極座標、矩形或線性的,您也可以創(chuàng)造自己的測繪方法,并且不受測量點數量的限制。內建數十種預定義的測繪圖案。不同的F50儀器是根據波長范圍來加以區(qū)分的。標準的F50是很受歡迎的產品。一般較短的波長(例如,F50-UV)可用于測量較薄的薄膜,而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 碳化硅膜厚儀輪廓測量應用

岱美儀器技術服務(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),技術力量雄厚。公司致力于為客戶提供安全、質量有保證的良好產品及服務,是一家其他有限責任公司企業(yè)。公司業(yè)務涵蓋半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀,價格合理,品質有保證,深受廣大客戶的歡迎。岱美中國自成立以來,一直堅持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。