許多用戶在購買時沒有從***角度考慮靶材。以下是采購靶材時應注意的事項。
對于所有金屬，純度是靶材的主要性能指標之一，這對后續(xù)產品薄膜的性能有很大影響。然而，靶材的純度要求對于每種產品都是不同的。
第二個是靶材的雜質含量。經過一系列靶材過程后，固體中的靶材雜質以及孔隙中的氧氣和水蒸氣是沉積薄膜的主要污染源。由于用途不同，不同用途對靶材雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業(yè)中使用的純鋁和鋁合金靶材對堿金屬含量和放射性元素含量有特殊要求。
密度也是靶材的關鍵性能指標之一。在靶材的工藝過程中，為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射膜的性能，一般要求靶材必須具有高密度。因為靶材的主要特征密度對濺射速率有很大的影響，并且影響薄膜的電學和光學性質。靶材密度越高，薄膜的性能越好。
，分析了晶粒度和晶粒度分布。通常靶材是多晶結構，并且晶粒尺寸可以從微米到毫米。對于相同的靶材，細晶粒靶材的濺射速率比粗晶粒靶材快；晶粒度差異小（均勻分布）的靶濺射沉積薄膜的厚度分布更均勻。
